浅析抛光工艺在我国的发展现状

抛光是瓷砖加工工序中十分重要的一项，抛光工艺通过抛光机来实现，其水平受到抛光机结构配置、抛光磨块和工艺参数等因素的影响。多年来，许多企业都在努力提高抛光工艺水平，或是改良抛光机结构配置，或是提升抛光耗材的使用寿命，还有优化工艺参数。企业的你追我赶使得陶瓷行业的瓷砖产品拥有更亮丽多样的表面效果，也提升了抛光机的节能降耗水平。

浅析抛光工艺在我国的发展现状（图片来源于网络）

细分市场

一位业内人士介绍到，瓷砖抛光工艺分为粗抛、素抛、半抛、全抛和柔抛等，而瓷砖抛光机有刮平粗抛机、素坯抛光机和普通抛光机等分类。粗抛是应用刮平粗抛机对瓷砖砖坯进行刮平定厚的;素抛是针对瓷片抛光使用的，使用的是素坯抛光机;而半抛则是针对手工砖和仿古砖的抛光工艺;全抛是抛光砖和抛釉砖使用的工艺;柔抛是针对近年来比较热门的柔光砖和喷墨渗花抛光砖使用的工艺。

此外，抛光砖和抛釉砖虽然都是使用全抛工艺，但是在抛光机的结构和电机功率、磨块和磨头的搭配以及磨块的材质上都有区分。抛釉砖抛光使用的是弹性磨块，而抛光砖使用的是合金磨块，目数和烧结强度都比弹性磨块要高。

由于抛光机种类多，企业的仓储能力、软件实力和财力都十分重要，所以许多生产抛光机的企业选择生产其中的几类产品。而且，现在耗材的市场竞争大，全国有几百家企业，以中小企业为主，然而市场却在萎缩，企业的库存压力较大。许多生产耗材的企业都在想办法降低成本，同时也在专注细分市场的耕耘，把产品做得更专业，不然就会被淘汰。

一位在瓷砖抛光线上工作多年的主管人员表示，如果不考虑瓷砖本身所具有的内因，单就抛光工艺而言，影响瓷砖抛光的几个主要因素是抛光液、抛光磨头、抛光磨块和抛光工艺参数。

水是常用的抛光液，它既可起磨削冷却的作用，又可作为抛光过程中物理作用的介质;抛光磨头是装备抛光磨块的设备，每平方米瓷砖分配的抛光磨头的数量会影响瓷砖的抛光精度;抛光磨块的制作材料多样，对抛光砖进行抛光时多采用含有金属材料制成的抛光磨块，硬度较软的磨块适用于柔光砖或弧面型瓷砖的抛光，硬度适中的磨块对全抛釉等瓷砖抛光的效果比较好。

此外，抛光工艺参数有抛光剂的浓度和供给量及抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前，抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加，浓度值达最大之后，若再增加浓度，抛光速度反而降低。同样，抛光剂的供给量在一定值时，抛光速度最大，之后若继续增加供给量，抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力，可以增加抛光速度，但压力过大，磨削作用加强，不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光磨头的转速，但线速度过大，抛光剂将会被甩出，造成浪费。

抛光机革新

一位业内人士透露，从上世纪九十年代初现代化瓷砖抛光机被引进中国开始，抛光机就成为了瓷砖生产线必不可少的部分。而在整个瓷砖抛光生产线中，抛光机是最重要的加工设备，瓷砖经过抛光加工后表面具有平整光亮的特点。瓷砖抛光的质量主要取决于抛光机工艺参数的制定，然而生产过程中普遍存在由于工艺参数设置不当造成漏抛、返抛的现象。同时陶瓷抛光机是高能耗设备，占据了30%-40%的抛光生产线电力成本，而传统陶瓷抛光机工艺参数的制定大多建立在改善瓷砖表面加工质量和提高抛光的生产效率等问题上，缺乏能源消耗过程的考虑，导致能源损耗大、利用率低。节能降耗一直是陶瓷生产企业关注的焦点，工艺参数是控制生产质量和能耗的关键，基于参数的优化寻求满足抛光质量最好与能耗最小的节能方式不仅可为陶瓷企业节省成本提高收益，更为我国节能减排事业提供切实的技术基础。

一直以来，人们印象中抛光机的基本结构都是瓷砖以正面向上的状态运行，磨头、抛光头在其上方进行磨削、抛光加工。时至今日，国内外的抛光机依然保持着这种最基本的运行结构。然而，在2015年推出的反置式抛光机，抛光磨头跟传统相比是反过来的，它的出现完全颠覆了人们对抛光机的传统认知。据介绍，反置式抛光机大胆地将瓷砖与加工机械的位置进行反置，即瓷砖以正面向下的状态运行，而磨头、抛光头则在其下方进行磨削、抛光加工，其新颖模式令人瞩目。

有专家指出，反置式抛光机涉及的技术含量非常高，瓷砖反置之后，一方面要确保瓷砖反面运输的时候不掉下来，一方面又要确保瓷砖需要抛磨的地方都抛磨到位，这是非常考验技术设计的。

“传统的抛光机，特别是瓷片抛光机最大的问题是会吸水，吸水了以后反翘，在干燥过程中，甚至会造成釉面釉裂等一系列麻烦。”一位业内人士表示，反置式抛光机正是为解决这些问题而设计。

反置式抛光机则利用了地球引力的作用，使抛光过程中产生的磨削依据自重向下掉落，无需大量冲水来带走磨削，只需要少量的水来进行冷却和润滑，防止抛磨过程过热把砖抛花。同时，瓷砖只有釉面接触到水，而釉面砖的釉层不透水，因此，抛光后砖坯不会吸收水分，无需加热干燥就可以直接包装。

据数据显示，普通的抛光机每分钟需要600升水，而反置式抛光机每分钟只需要40升水，这就意味着每分钟节约560升水，假设一天按照工作8小时来计算，每天可以节约26.8吨水。所以，反置式抛光机又被称为“微水型抛光机”，仅节水这一项就可以为企业带来不小的效益。而且由于抛光过程耗水量极低，其产生的“污水”可直接在陶瓷原料加工时消耗掉，无需进行污水处理，企业还可以节省污水治理方面的投入。

柔抛工艺不断完善

近年来，为了配合柔光砖的生产，出现了一种“柔抛工艺”，又称“靠形抛光”。以柔抛工艺对瓷砖表面肌理进行控制，促使光线在瓷砖表面形成漫反射，降低砖面反光率，创造柔和的视觉光感，从而有效结合亮光瓷砖的明艳和亚光瓷砖的内敛效果，产品的质感更细腻，光感更柔和。

另一方面，喷墨渗花抛光砖目前也应用了柔抛工艺，陶企为了尽量保留纹理的细节表现，提高砖面质感与精细度，使用渗花工艺生产抛光砖对于砖坯的平整度要求极高，并且无法进行深度抛光，多为柔抛，砖面的平整度较传统抛光砖略差，工艺控制不到位甚至会出现较明显的水波纹。

某陶企抛光生产线的主任分析到，柔抛工艺在行业中又习惯称软抛工艺，主要是指抛光的切削量很少，着重于提高表面的光泽度，一般不需要刮平、粗抛工序，直接进行精抛，而且磨头的磨料细度很高。例如，普通用于抛光砖加工的磨料细度一般为30-1500目，最高不超过1800目，切削厚度一般为0.8-1.5mm。而用于釉面抛光砖加工的磨料一般为600-5000目，甚至更高，切削厚度一般少于0.2mm。另外，在生产某些亚光砖时，采用硬质毛刷代替传统的磨头，因此在行业中也有人称为柔抛工艺。

该主管透露，准确来讲，其实柔抛工艺与靠形抛光是两回事，但在釉面砖如全抛釉的生产过程这两种工艺中往往同时使用。靠形抛光行业中又习惯称为弹性抛光，其最大的特点是能够在一定程度上沿着砖面的形状进行抛光，而不会很明显地修正砖坯表面的平整度，该工艺主要应用于釉面砖生产。由于釉面砖的釉层比较薄，一般只允许切削表面0.2mm左右，如果采用传统的“刚性抛光”，容易出现明显的缺花、缺釉现象，或出现严重的漏抛现象。

那么，弹性抛光的原理是怎样实现“靠形”的呢?其实关键在于磨头结构的设计上。在抛光磨头工作面一般设计成粒状(块状)，工作面与底座之间设有一层1.0-1.5cm的弹性像胶，以使抛光时磨头的工作面能够根据砖面形状自由调整方向，实现靠形抛光的目的。因此，弹性抛光不能修正砖面的平整度。(来源：九正建材网）